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多功能化工王子-四甲基氢氧化铵

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多功能化工王子-四甲基氢氧化铵

发布日期:2015-05-13 作者: 点击:

四甲基氢氧化铵

沸点:110 °C[3]  密度:0.866 g/mL at 25 °C

蒸气压:17.5 mm Hg ( 20 °C)

折射率:n20/D 1.384

闪点:80 °F

储存条件 2-8°C

稳定性:稳定的,易燃。不相容的是具有较强氧化剂,如强大的氨基酸。

相关用途:

在前面提到了TMAH所具有的2种特性:(1)分解温度低,分解后变成气体,不会留下残留物;(2)本身是有机强碱,在水中完全电离,金属含量低。TMAH的特性使其在化工生产及半导体领域中得到了广泛的应用。

(1)有机合成试剂。TMAH是有机碱,能和各种不同的酸反应制备相应的铵盐,如四甲基碳酸氢铵,四甲基氟化铵等较难合成且没有市售的铵盐;制备酸性化合物烷基衍生物,等。

(2)作表面活性剂。由于TMAH属于季铵碱,可以用作表面活性剂。

(3)作催化剂。TMAH在有机硅合成方面被广泛用作相转移催化剂,如作二甲基硅油、苯甲基硅油、有机硅扩散泵油、无溶剂有硅模塑料和有机硅树脂硅橡胶等的催化剂;可作为橡胶防老剂中间体的缩合催化剂;作沸石、分子筛合成的催化剂。

(4)分析领域。TMAH是优异的甲基化剂,其甲基化能大,酯化速度快,在用气相色谱法测定脂肪酸的组成时,TMAH用作前处理剂;在极谱分析中作支持电解质;TMAH是强有机碱,可作为有机酸的滴定剂,尤其是在避免金属离子和非水溶剂时,TMAH是很好的选择。

(5)半导体领域。有机材料蚀刻中TMAH作为正胶显影剂,有机材料蚀刻主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶;TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺相兼容,符合SOC(嵌入式系统微处理器)的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现微电子机械系统(MEMS)工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。

(6)其他。在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素;作pH值缓冲剂。 


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